Quantum X

3Dマスターモールド製造専用機


Nanoscribe(ナノスクライブ)社の Quantum X は、工業生産プロセスにおけるプロトタイプやマスターの製造用に設計されたマスクレス・リソグラフィシステムです。マイクロ光学素子やマイクロレンズアレイ、マルチレベル回折光学素子を、形状を自由に製造できます。

Quantum X は世界初の2光子グレイスケールリソグラフィ(2GL®)システムで、グレイスケールリソグラフィの高い性能と、Nanoscribeによる先駆的な2光子重合技術の高い精度と柔軟性を兼ね添えたシステムです。

この新しい微細加工システムは、形状精度が高く非常に滑らかな表面をもつ複雑な形状の光造形で求められる、高速、完璧な設計自由度、高精細を提供します。迅速かつ正確な光造形プロセスにより、設計の反復サイクルを劇的に短縮でき、費用対効果の高い微細加工を達成します。

2光子グレイスケール・リソグラフィ


2光子グレイスケールリソグラフィ(2GL)は、積層の微細造形と超高速のボクセルサイズ調整を組み合わせたものです。この画期的な技術は、スピードや精度を犠牲にすることなく、高速、正確、自由形状の微細加工を実現します。

Quantum Xは、高速での同期レーザパワー変調を用いて、1つの走査面に沿ってボクセルサイズを制御します。このようにして複雑な形状が成形され、1つのスキャンフィールドでさまざまな形状高さを造形します。 追加のリソグラフィ工程やマスク製造不要で、離散的で正確なステップと、本質的に連続なトポグラフィを最大6インチウェハ基板上にプリンティングできます。


Quantum X ウィザードは、プリンティングジョブの作成をガイドします。付属ソフトウェアは、2GLで直接造形するための、最大32ビット解像度のグレースケール画像を受け入れます。 2Dおよび2.5Dの回折および屈折マイクロオプティクスは、滑らかな表面と高い形状精度で実現します。

主なアプリケーション

産業用途での以下のような用途に好適です。

  • 屈折型マイクロオプティクス:レンズ単体またはアレイ
  • マルチレベル回折光学素子:最高256段または準連続レベル
  • 2.5次元マイクロオプティクスのラピッドプロトタイピング
  • 複製加工用のパターニングポリマーマスターによる迅速なツーリング
  • 少量生産
  • ウェハスケール製造

主な仕様

造形技術 2光子グレイスケールリソグラフィ (2GL)
最小XY形状寸法 160 nm(代表値)、200 nm(仕様値)※1
最高XY解像度 400 nm(代表値)、500 nm(仕様値)※1
最小垂直ステップ 10 nm, 準連続トポグラフィ可能
最小表面粗さ, Ra ≤ 10 nm ※1
スキャン速度 ≤ 250 mm/s ※1
エリアプリンティング速度 3 mm2/h(回折光学素子での代表値)

※1 使用する対物レンズや光学樹脂により異なります。