IP フォトレジスト

高精度3D微細加工向けのオーダーメイド材料

Nanoscribe社は、最高の分解能と形状精度を実現する液体のネガ型フォトレジストをラインナップしています。IPフォトレジストは2光子重合(2PP)およびPhotonic Professional 3Dプリンター向けにに設計されています。製品の新しいラインナップは、IP-Qです。新製品IP-Qは、Photonic Professional GT2を用いた、高速メソスケール加工に理想的なプリンティング材料です。マイクロメートルの精度で、数十立方ミリメートルの容積の物体がプリント可能です。アプリケーションに最適なフォトレジストを選択することで、最高でメソスケールにおいて、サブミクロンの特徴や突き出た構造、光学品質表面、もしくは高速メソスケール加工が可能となります。当社の材料の概要はこちらからご覧頂けます。

主な特長

  • 2PPベースの3Dプリンティング向けに特別に設計
  • 最小160nm(典型例)の特徴サイズ
  • 高速3Dマイクロプリンティング
  • 様々な基板に対する優れた粘着性
  • 最適化された機械的安定性および優れた形状精度
  • 分かりやすく取り扱え、簡潔なプロセス
  • スピンコートや露光後ベーク(PEB)が不要

新製品IP-Qフォトレジスト

“Q”は高速メソスケール加工を表しています。IP-Qフォトレジストは、一度により大きな容積を扱うという、新しいプリンティング戦略に適しています。以前の2PPベースのプリンティングと比較して、プロセス・スループットが10倍増加いたしました。数十立方ミリメートルの容積以前よりも素早く実現します。

主な利点

  • 最大でメソスケール構造における高速加工
  • マイクロメートルの精度を持つ数十立方ミリメートルの容積
  • IP-Qに使用可能なソフトウェアレシピ

マイクロおよびメソスケール構造に最適化されたソリューション

プリンティング材料として、IPフォトレジストはNnoascribe社のマイクロプリンティング・ソリューションの基本要素です。プリンターソフトウェアは、異なるIPフォトレジストやアプリケーションに対して最適化された高度なレシピを提供します。3Dプリンティングワークフローを明快にし、科学や産業のユーザー向けに設計反復サイクルをスピードアップします。

さらに、商用のUV硬化フォトレジストやヒドロゲル、ナノ粒子複合レジスト、そしてオーダーメイドの材料へと、材料の範囲を拡大します。例えば、鋳造や原子層堆積(ALD)、化学気相成長(CVD)もしくは亜鉛めっきといったポスト・プリンティングプロセスでは、3Dプリントした構造の修正を可能にし、他のプラスチックやセラミック、金属、もしくはガラスといった材料の混合も可能にします。

複製可能な構造を持った3Dプリントしたパーツは、例えば、射出成形もしくはホットエンボスといった工業プロセスにマッチした、シリーズ生産用のポリマーマスターとして使用できます。また、3Dマイクロプリンティングによる複雑で高精度なポリマーマスターの作製では、ポリマーマスターの高速設計最適化により、設計反復の短縮が可能です。