フォトレジスト

2光子重合による高精度3D微細加工に最適化されたプリンティング材料


ナノスクライブのIP樹脂は、高分解能 微細造形のための標準材料として開発されました。サブミクロンの解像度と形状精度を提供し、取扱いが容易なネガ型樹脂です。用途に最適なフォトレジストを選択すれば、サブミクロンオーダーの形状、張突き出し要素、光学品質表面、メソスケールからマクロスケールでの高速造形を実現できます。

プリンティング材料として、IP樹脂はナノスクライブの光造形ソリューションセットに欠かすことができない要素です。プティングソフトウェアは、さまざまなフォトレジストやアプリケーションに最適化された高度なレシピを提供します。これにより、バイオミメティクス表面、マイクロ光学素子、メカニカル・メタマテリアル、マイクロ流路など、科学から産業まで広く、3Dプリンティングワークフローを簡易化し、設計繰返しサイクルをスピードアップできます。

ナノスクライブ製フォトレジスト

ナノスクライブでは、IPフォトレジストと呼ばれるネガ型樹脂をラインナップしています。2光子重合(2PP)用に最適化され、高精細積層造形(additive manufacturing)で優れた特性を提供します。

  • 形状分解能:160 nm(代表値)
  • 高速微細造形
  • 各種基板への高い密着性
  • 最適化されたメカニカル安定性と優れた形状精度
  • 取り扱い簡単&プロセス容易
  • スピンコーティングや露光後ベークが不要

ナノスクライブのフォトレジストは、Quantum X 3Dマスターモールド製造専用機Photonic Professional GT2 R&D用多用途機 向けに最適化されています。

IPフォトレジスト・ラインナップ

レジスト 特長 用途
IP-Q 最大容量 100mm3 の高速造形。ディップインレーザーリソグラフィー(DiLL)向け バイオメディカル・エンジニアリング、機械部品、マイクロラピッドプロトタイピング
IP-S 光学品質の表面粗さと形状精度を備えた、マイクロスケールおよびメソスケール造形用の滑らかな表面。DiLL用に設計。 メカニカル・メタマテリアル、マイクロオプティクス、集積フォトニクス、マイクロ流路、細胞スキャホールド
IP-Dip サブミクロン形状と高アスペクト比。DiLL用に設計。 フォトニック・メタマテリアル、回折光学素子、マイクロロボット
IP-G 780 複雑な3Dデザイン(張り出し要素など)。サブミクロン形状、低収縮率。油浸構成用に設計。 バイオミメティクス/フォトニクス/マイクロロボットの張り出し要素
IP-L 780 サブミクロン形状、低収縮率。油浸構成用に設計。DiLLと互換性あり。 プラズモン、フォトニック、バイオミメティクス表面

 

幅広い材料に対応

ナノスクライブの光造形装置は、幅広い材料を使用できるオープンシステムとして設計されています。市販のUV硬化性フォトレジスト、ハイドロゲル、ナノ粒子複合樹脂、および特注材料まで様々な材料に対応できます。

新しい樹脂の試験を行う材料開発者のニーズに応える、対応可能な材料とプロセスの多様性により、光学的、機械的、電気的、化学的、生物的な特性を必要に応じて調整できます(光学、フォトニクス、バイオメディカルなエンジニアリングなど)。

キャスティング、原子層堆積(ALD)、化学蒸着(CVD)、亜鉛めっきなどの造形後工程により、成形した3D構造を改質し、プラスチック、セラミック、金属、ガラスなど、さらなる材料の包含が可能になります。

対応可能な他社製フォトレジスト例

  • SU-8:ネガ型エポキシベースレジスト
  • AZ® フォトレジスト:ポジ型レジスト
  • ORMOCER® ポリマー:無機-有機ハイブリッド・ポリマー

対応可能な特注材料例

  • ハイドロゲル:分解性樹脂など
  • 複合材料
  • 液晶エラストマー

成形後プロセス

  • 原子層堆積(ALD)
  • 化学蒸着(CVD)
  • 物理蒸着(PVD)
  • 無電解メッキ
  • 亜鉛メッキ
  • PDMSのキャスティング
  • ナノインプリント・リソグラフィ
  • ホットエンボス加工
  • インジェクション・モルディング