マスクレス・リソグラフィ

ナノスクライブのマイクロ・プリンティング技術はポジ型レジストの露光にも適用できます。2光子吸収プロセスはポジ型レジスト内の任意位置において局所的に脱重合反応を引き起こすことができます。つまりフォトマスクを使わずなくとも、薄くコーティングされたレジストにおいて2次元ないしは2.5次元の描画ができるので、マスクレス露光用途としてもお使いいただけます。このプロセスはレジスト塗布基板の透明性に無関係で、ガラスはもちろんのことシリコンにも適用できます。使用できるポジ型フォトレジストは、AZR MIR 701、AZR 5214、AZR 9260、AZR 40XT です。もちろん、SU-8や当社独自の IPシリーズ のようなネガ型フォトレジストを用いても、2次元ないしは2.5次元のパターニングが可能です。特に当社のIPシリーズは、取り扱いが容易にも関わらず再現性に優れているため、レジスト塗布の前処理や後処理に手間をかけることはありません。

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ポジ型/ネガ型フォトレジストから Photonic Professional GT を用いて作製した種々の2DパターンのSEM写真