Additive Manufacturing

マイクロ・ナノ光造形プロセスによって、光硬化性材料(フォトレジスト)を用いて任意の3Dパターンを高解像度で製作することができます。ご使用いただける光硬化性材料として、市販品のSU-8、OrmocompR、及びナノスクライブ社独自の IPレジスト が挙げられます。解像度は主に、感光材料内でのレーザースポットサイズ(Voxel Sizeと呼びます)、レーザー光源の出力パワー、および感光材自体の特性で決まります。高開口数の集光オプティクスを用いることでサブミクロンサイズの非常に小さなVoxelが得られます。このVoxelを光硬化性材料内で高精度に移動させることによりマイクロ・ナノ光造形を行います。ナノスクライブでは、Voxelを空間内で移動させる手段として2つの方法を採用しています。ひとつめはビーム (Voxel) を固定してサンプルを動かす方法 (Fixed Beam Moving Sample – FBMS)、もうひとつはサンプルを固定してビームを動かす方法です (Moving Beam Fixed Sample-MBFS)。FBMSでは、高精度ポジショニング・ユニットにより基板を集光オプティクスに対して相対的に移動させます。この動作には多くの場合、非常に高精度な3次元空間移動を可能にするピエゾアクチュエータが用いられます。その一方MBFSでは、レーザービームをガルバノミラーで横水平方向にスキャンし、縦方向の動作はピエゾアクチュエータでコントロールしています。このMBFSの手法では、レイヤー・バイ・レイヤー法を採用することで製作速度を高速化できます。

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マイクロスケールからメゾスケール: これら格子キューブは全て Photonic Professional GT を用いて作製しました。異なるスケールでマイクロ製造プロセスの汎用性が実証されています。