技術情報

当社の3次元マイクロ・ナノ光造形は、レーザー直接描画の技術をベースにしています。具体的にはレーザーを用いた非線形2光子吸収プロセスの原理をベースにしています。紫外光で感光する材料の多くは、近赤外光の2光子吸収プロセスによって紫外光を照射する場合と同じような化学反応を起こします。2光子吸収プロセスを起こすには、超短パルスレーザーによる非常に高い光強度が必要です。超短パルスレーザーを感光材料内に集光すると、集光点において2光子吸収プロセスが発生し、その点のみにおいて化学反応が起こります。この集光点は2次元平面におけるPixelにならいVoxelと呼ばれます。

<参考文献>
Laser-induced Production of Free Radicals in Organic Compounds

Yoh‐Han Pao?and P. M. Rentzepis, Appl. Phys. Lett. 6, 93 (1965)


Additive Manufacturing

光重合を引き起こす2光子吸収は、1965年にPaoとRentzepisにより初めて報告され、それ以降、微細加工のための有効なツールとなりました。これにより形状的/機能的に複雑なマイクロ/メゾスケールのパーツ製作が可能になりました。 詳しくはこちら »


マスクレス・リソグラフィ

2光子吸収に基づく光造形手法は、ネガ型フォトレジストを用いた積層的な造形だけでなく、ポジ型レジストを用いた切削的な加工も可能にします。後者では非線形光吸収が素材の局所的な脱重合を起こし、その反応箇所は現像液で簡単に除去できます。 詳しくはこちら »


材料&プロセス

科学・産業のおける多くの応用分野で、ポリマーはすでにメジャーな3Dプリント材料になっています。しかしながら光造形による直接的な加工ができない素材を必要とするアプリケーションもあります。このような場合には、金属、シリコン、シリカ、あるいはPDMSに3次元構造を複製できる反転及び転写技術が有効です。ナノスクライブでは産業界でのパートナーと協力し、市場の求める転写技術を開発・提供しています。 詳しくはこちら »