IP フォトレジスト

ナノスクライブ社製システムの性能を最大限引き出すため、ナノスクライブ社では特別に開発したIPフォトレジストをラインナップしています。これらネガ型フォトレジストは、最高の分解能とシンプルな使い勝手を兼ね備え、多光子重合プロセスに最適です。なおこのIPフォトレジストはナノスクライブ社製システムをお使いの方のみご購入いただけます。

主な特長

IPフォトレジスト

  • フォトレジストを滴下するだけで塗布でき、
    取扱いが簡単
  • 露光後ベーク不要
  • 種々の基板に対する高い粘着性
  • 低応力性
  • 優れたメカニカル安定性
  • 高速3Dストラクチャリングに最適な感度
  • 形状寸法:最小 150 nm

IP フォトレジスト概要

状態 プリベーク/
ポストベーク
分解能 収縮量

IP-Dip

液浸媒体及び感光性材料として機能する
屈折率調整レジストです。

液体 No / No

IP-L 780

最高の解像度を実現したレジストです。

液体 No / No

IP-G 780

複雑な3D描画軌道用の高粘度レジストです。

ゾル-ゲル Yes / No