フォトニック表面

2Dフォトニックのアプリケーションは、ナノスクライブ社のレーザー・リソグラフィ・システムの二光子重合技術により、高解像度化できます。使用レジストの光化学に応じて、集光オプティクスの形状サイズを約150 nmまで最小化できます。
この技術は電子ビーム・リソグラフィと1光子吸収による直接レーザー描画システムの間を埋めるものです。

主なアプリケーションとして、回折光学素子 (DOE) やグレーティング、メタマテリアル、オプティカル・セキュリティラベル、光導波路、生体模倣などがあります。



最近の発表文献

  • Transmission phase gratings fabricated with direct laser writing as color filters in the visible
    M. Nawrot, ?. Zinkiewicz, B. W?odarczyk, and P. Wasylczyk, Optics Express, 21, DOI:10.1364/OE.21.031919 (2013)
  • Structured Metal Film as a Perfect Absorber
    X. Xiong , S. Jiang , Y.Hu , R. Peng , and M. Wang, Advanced Materials, DOI: 10.1002/adma.201300223