ポジ型レジスト・パターン

2光子重合を基にした3Dプリンティングに使用される非線形2光子吸収(2PA)効果は、減色方式及び直接描画、そしてマスクレス手法により、適切なポジ型レジストのパターン化に利用できます。ここでは、描画レーザーは、物質内部に集光されており、集光部にのみ照射されます。効率的な露光により、光は3次元すべてで制御されています。

この手法では、層ごとにそれぞれの手法で厚膜あるいは薄膜レジストが露光されます。この手法には、1つの大きな利点があります。それは、露光パラメータが単純に使用しているレジストに依存し、露光パターンには依存しないため、物質内部の大幅な吸収がレーザーの焦点にのみ発生する、ということです。薄膜及び厚膜での2次元や2.5次元、そして3次元のパターンはこの手法で作製されます。

商業利用可能な多くのポジ型レジスト(AZR レジスト等)は、2PAプロセスに適しており、エッチングや材料蓄積、リフトオフ、電気めっきといった定着した技術を用いたパターン転写が容易に行えます。



最近の発表文献

  • Two-photon lithography for 3D magnetic nanostructure fabrication
    Williams, G., Hunt, M., Boehm, B., May, A., Taverne, M., Ho, D., Giblin, S., Read, D., Rarity, J., Allenspach, R., Ladak, S., Nano Research, 2017, DOI: 10.1007/s12274-017-1694-0
  • Three-dimensional soft material micro-patterning via Direct Laser Lithography of flexible moulds
    Bernadeschi, I., Tricinci, O., Mattoli, V., Filippeschi, C., Mazzolai, B., Beccai, L., ACS Appl. Mater. Interfaces, 2016, DOI: 10.1021/acsami.6b08872
  • A Versatile Direct Laser Writing Lithography Technique for Surface Enhaced Infra-Red Spectroscopy Sensors
    Braun, A., Maier, S. A., ACS Sens., 2016, DOI: 10.1021/acssensors.6b00469