ポジ型レジスト・パターン

二光子 “脱重合” により、 不透明・透明に関わらず様々な基板上にポジ型フォトレジストを柔軟にパターニングすることができます。微細構造をもつ高分解能 2Dパターンを、高価なマスクを使わずにフォトレジストへ直接成形できます。
この技術は電子ビーム・リソグラフィと1光子吸収による直接レーザー描画システムの間を埋めるものです。フォトレジストパターンを基板に転写するには、素材の堆積膜のエッチングとそれに続く剥離加工を行います。
メッキ処理を応用すれば、2D構造を金属パーツ成形のための金型として利用することも可能です。



最近の発表文献

  • Transmission phase gratings fabricated with direct laser writing as color filters in the visible
    M. Nawrot, ?. Zinkiewicz, B. W?odarczyk, and P. Wasylczyk, Optics Express, 21, DOI:10.1364/OE.21.031919 (2013)
  • Structured Metal Film as a Perfect Absorber
    X. Xiong , S. Jiang , Y.Hu , R. Peng , and M. Wang, Advanced Materials, DOI: 10.1002/adma.201300223